第503章 7nmEBL光刻机研发成功(2/6)

，纷纷走上前。

身材高大的保镖中，其中一位恭敬地问道：“董事长，您需要用车吗？”

“不用了，”郝强微笑着摇了摇头，“我去实验室走一趟，活动一下。”

“好的。”保镖点点头，虽然没有得到具体的指令，但他们始终保持着警觉和礼貌。

于是，其中两位保镖默默跟随，直到郝强步入18号实验楼。

实验楼的门外，保镖只能在外等候。

他们并不清楚实验楼里究竟进行着怎样的研究，他们只需要做好保护郝强的本分工作就行了。

一会儿后，郝强终于走到ebl光刻机组装实验室。

走进门时，他环顾四周，看到十几个研发人员和几位组装人员围聚在一台ebl光刻机周围忙碌着。

此时，7nmebl光刻机的试验运行在实验室内有条不紊地进行着。

这台设备，称为“ebl701”。

“董事长好！”陈臻见到郝强的身影，立刻走了过来，神色恭敬地问候。

郝强点了点头，脸上带着一丝温和的笑容：“嗯，继续运行吧。”

他的目光停留在机器上，眼里充满了期待。

每隔几天，郝强就过来看看项目进展，确保一切都在计划轨道上。

郝强站在一个屏幕前，看了眼设备运行。

电子束在硅片表面快速而精准地雕刻着微小的电路图案，每秒曝光可以达到60万次以上，画完一个芯片的速度非常快，一片硅片仅需要几十秒钟而已。

但是，一块芯片需要画许多层。

针对青龙8124，14nmebl光刻机最大产能为：150wph（wafersperhour，即每小时可处理的晶圆数量。）

而7nmebl光刻机最大产能为：100wph（wafersperhour，即每小时可处理的晶圆数量。）

随着机器启动的低沉嗡嗡声响起，实验室里的工作人员开始紧张地调整设备，进入各项测试环节。

陈臻站在设备旁，眉头紧锁，时不时查看显示屏上的数据反馈。

这些数据关系着机器运行的效果，也意味着研发的成败。

随着时间